新たな年を迎え謹んで新春のお慶びを申し上げます。

はじめに、新型コロナウイルス感染症により影響を受けられた方々に心よりお見舞い申し上げます。

さて、新型コロナウイルスの感染拡大に伴い、これまでの生活・ビジネスのあり方が大きく変化しつつあります。内閣府が策定した知的財産推進計画2020においては、この変化を契機としてコロナ後のニュー・ノーマルの下で「価値デザイン社会」や「Society 5.0」実現に向け持続的なイノベーションの創出を図るため、「創造性の涵養」「中小・ベンチャー企業及び農業分野における知財戦略の強化」等に取組み、戦略的な知財活用を推進するとしております。

特許庁においても、コロナ禍でデジタル化・オンライン化が進む中、ユーザーの利便性向上のため、申請手続きの更なるデジタル化や口頭審理のオンライン化等が予定されております。
　当協会が特許庁より受託し実施ている産業財産権人材育成協力事業（アジア太平洋を中心とした途上国等における知的財産関連人材の育成を行う事業）においても、当初予定しておりました研修生の受け入れを取り止め、昨年9月からオンラインでの研修を実施しております。また、当協会が主催する知的財産スポット講座でも昨年秋からオンライン配信に切り替え、受講者の皆様から大変好評を得ております。今後も感染症の拡大防止に努めながら、知的財産権制度の普及啓発及び知的財産権の利用促進を図ってまいります。

本年も皆様からのご要望に沿いながら、知的財産権制度の普及啓発、イノベーションの創出等に寄与すべく努めてまいる所存でございますので、引き続きご支援ご協力の程よろしくお願い申し上げます。最後に本年が皆様にとりまして実り多き一年となりますことを祈念して、年頭のご挨拶といたします。